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【簡(jiǎn)介】
分析了鍍液中納米SiC懸浮量、陰極電流密度、鍍液pH值、溫度以及攪拌速度對(duì)復(fù)合沉積層中納米SiC復(fù)合量和共沉積速率的影響，同時(shí)用正交實(shí)驗(yàn)法優(yōu)選了各工藝參數(shù)，并且對(duì)Ni—SiC納米復(fù)合鍍層進(jìn)行了表面形貌和能譜分析。結(jié)果表明，Ni—SiC納米復(fù)合鍍層表面平整光滑，顯微組織均勻、致密，并且，其顯微硬度也較純鎳鍍層有明顯提高。
【簡(jiǎn)介】
分析了鍍液中納米SiC懸浮量、陰極電流密度、鍍液pH值、溫度以及攪拌速度對(duì)復(fù)合沉積層中納米SiC復(fù)合量和共沉積速率的影響，同時(shí)用正交實(shí)驗(yàn)法優(yōu)選了各工藝參數(shù)，并且對(duì)Ni—SiC納米復(fù)合鍍層進(jìn)行了表面形貌和能譜分析。結(jié)果表明，Ni—SiC納米復(fù)合鍍層表面平整光滑，顯微組織均勻、致密，并且，其顯微硬度也較純鎳鍍層有明顯提高。
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