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物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件

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核心提示:英文名稱: Specifications of physical vapour deposition TiN films中標分類: 綜合基礎(chǔ)標準A29材料防護ICS分類: 機械制造表

英文名稱: Specifications of physical vapour deposition TiN films

中標分類: 綜合>>基礎(chǔ)標準>>A29材料防護

ICS分類: 機械制造>>表面處理和涂覆>>25.220.20表面處理

發(fā)布部門: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局

發(fā)布日期: 2002-03-10

實施日期: 2002-08-01

首發(fā)日期: 2002-03-10

復(fù)審日期: 2004-10-14

提出單位: 中國機械工業(yè)聯(lián)合會

歸口單位: 全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術(shù)委員會

主管部門: 中國機械工業(yè)聯(lián)合會

起草單位: 武漢材料保護研究所

起草人: 凌國偉、李健、倪瀚、黃濟群

頁數(shù): 平裝16開, 頁數(shù):23, 字數(shù):39千字

出版社: 中國標準出版社

書號: 155066.1-28611

出版日期: 2002-08-01

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關(guān)鍵詞: 氣相沉積 薄膜
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