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摘要：為研制金屬泡沫材料電沉積制備所需的導(dǎo)電泡沫基體,以孔徑為0.3 mm的微孔聚氨酯泡沫為基體進(jìn)行 化學(xué)鍍銅新工藝研究。探討鍍液組成、溫度、pH及超聲強(qiáng)化對(duì)化學(xué)鍍銅工藝的影響,得出化學(xué)鍍銅優(yōu)化工藝條 件如下:硫酸銅質(zhì)量濃度為16 g/L,酒石酸鉀鈉質(zhì)量濃度為30 g/L,Na2EDTA質(zhì)量濃度為20 g/L,α,α′-聯(lián)吡啶質(zhì) 量濃度為25 mg/L,亞鐵氰化鉀質(zhì)量濃度為25 mg/L,PEG-1000質(zhì)量濃度為1 g/L,甲醛含量為5 mL/L,鍍液 pH 為12.5~13.0,溫度為50 ℃。在此條件下,鍍液穩(wěn)定性好,鍍層光亮平整,鍍速可達(dá)0.102 mg/min;超聲強(qiáng)化可 有效提高鍍速20%~30%;化學(xué)鍍銅后的導(dǎo)電泡沫基體經(jīng)電沉積工藝可制備得到孔隙率為92.2%的三維網(wǎng)狀金屬泡 沫材料。
