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硫元素與鎳陽極和鎳鍍層影響

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核心提示:摘要:綜述了硫元素對鎳陽極的活化作用和硫元素對鎳鍍層的鈍化作用。含硫鎳陽極活性好,易溶解,省電;含硫鎳鍍層易鈍化,不易套

摘要:綜述了硫元素對鎳陽極的活化作用和硫元素對鎳鍍層的鈍化作用。含硫鎳陽極活性好,易溶解,省電;含硫鎳鍍層易鈍化,不易套鉻,不易鍍仿金,真金。提出了使鍍層含硫量高的兩個主要因素,及已鈍化鎳鍍層的活化方法。

關(guān)鍵詞:含硫鎳陽極 高硫鎳鍍層 鈍化

1 硫?qū)︽囮枠O的活化作用

鍍光亮鎳一般用電解鎳極做陽極,溶解性差,容易鈍化。含硫的鎳陽極不易出現(xiàn)電化學(xué)鈍化,容易溶解,活性高,含硫的質(zhì)量分?jǐn)?shù)在0.01%—0.04%為最佳。不同文獻(xiàn)對含硫鎳陽極的有點(diǎn)的論述如下:

《防護(hù)裝飾性鍍層》P232含硫活性鎳陽極,能使陽極溶解均勻。即使在沒有氯化物的鍍液中,也能使陽極效率達(dá)到100%。

《使用電鍍工藝》P167-168,采用純度很高的電解鎳陽極,電鍍時很易鈍化,含0.01%—0.015%的硫元素的鎳陽極,溶解性好,活性強(qiáng),可在大電流密度條件下操作。如Inco鎳圓餅比普通電解鎳板份的溶解電壓低約1.5v,因而可節(jié)約電能。

(美)《現(xiàn)代電鍍》 P395及文獻(xiàn)榮邦認(rèn)為:含硫鎳陽極,在無氧化物溶液中陽極電流密度高度40A/dm仍有安全活性,在含氧化物溶液中,陽極電流密度可使用到50A/dm.。

半光亮鎳含硫量0.001%—0.003%;高硫鎳含硫量0.15%—0.3%;光亮鎳含硫量0.05%—0.1%。三層鎳在腐蝕介質(zhì)中。先腐蝕含硫量最高的高硫鎳層,其后是亮鎳層,這也說明了硫元素對鎳陽極,鎳鍍層有活化作用。

普通電解鎳板的臨界鈍化電流密度是多少?沒有明確的文獻(xiàn)記載,在含0.2—0.3mol/L的鍍鎳溶液中,陽極電流密度超過3A/dm就會鈍化,從這點(diǎn)上判斷,含硫鎳陽極確實(shí)電化學(xué)活性高,有點(diǎn)不少,應(yīng)該重視它的推廣應(yīng)用,還有相當(dāng)一部分電鍍長人在使用普通電解鎳板。不利于節(jié)電降低成本。

2 硫元素對鎳鍍層的鈍化作用

亮鎳層中含硫過多且分布不均勻會引起亮鎳局部鈍化,含硫越多,鈍化越快。

《使用電鍍工藝》P214,裝飾鉻出現(xiàn)發(fā)花或呈灰暗色故障的原因之一,就是鍍鎳液中糖精含量高。

《高亮鍍鎳》P38,P30,糖精超過68/L,易使鎳層鈍化,影響鍍層結(jié)合力和隨后的套鉻,使鉻層發(fā)花,白斑,黃斑。

《實(shí)用電鍍添加劑》P391,P374,P357初級光亮劑過亮,初級光亮劑(柔軟性)與次級光亮劑(光澤劑)比例失調(diào),前者過量一集鍍液PH值太低,鍍亮鎳后未及時套鉻,都會造成鎳層鈍化。這是因為這些因素使鎳含硫量高,高硫鎳層活性很強(qiáng),電位比光亮鎳負(fù)20mv左右,含硫量高的鎳層套鉻是有困難的,套鉻后常可見鉻層發(fā)花,露黃,零件邊緣的鉻層燒焦,零件中間出現(xiàn)黃膜,黃斑,白斑等缺陷。正因為高硫鎳上不易套鉻成功,三層鎳工藝中,需鍍光亮鎳層來覆蓋高硫鎳層。

3 防止鎳層鈍化的措施

有一些故障從表面上看,問題出在鍍鉻或鍍仿金溶液,但怎么調(diào)整都無法恢復(fù)正常,實(shí)際上問題是卻出在鍍亮鎳溶液。從亮鎳層的外觀上看不出明顯的異樣,實(shí)際上亮鎳層活性不好,是呈鈍化狀態(tài)的。

為防止鈍太亮鎳層的產(chǎn)生,避免不必要的損失,生產(chǎn)中要注意的問題主要有:

①柔軟性和主光亮劑配比要合理,柔軟劑糖精,苯亞硫酸鈉,對甲苯硫酸銨,二苯磺基亞胺等,加入量多時,可試補(bǔ)加次級光亮劑(主光劑)來克服,或稀釋鍍液,如果還是不能克服,說明初級光亮劑(柔軟劑)太多了,需少量活性炭吸附過濾掉一部分。

②控制亮鎳溶液的PH值不能太低。從高硫鎳鍍液的原理可知,在鍍液PH值低時,糖精之類硫化合物易電解還原析出硫,鍍層含硫量下降,不易發(fā)生鈍化。

③掛具出入鍍亮鎳槽時,應(yīng)減小電流,槽壓降至6—7以內(nèi),這樣可減輕雙性電極現(xiàn)象,防止鎳層鈍化。

已鈍化的亮鎳層用稀H2SO4活化是沒有效果的,為解決亮鎳層的鈍化問題:周弘認(rèn)為,鎳易鈍化,鍍后間隔一段時間再上鎳上補(bǔ)鍍鎳則更為困難。應(yīng)先除去鎳鍍層表面所形成的鈍化膜,然后在原鎳層上鍍一層銅,再進(jìn)行補(bǔ)鍍亮鎳。陽極處理除去鎳層表面鈍化膜的溶液和條件是,H2SO4 750%,甘油 60g/L,CRO3 50g/L,草酸10g/L,T=15—25度,DA=0.8—1.2A/dm.t=4S—7S,然后立即在1:3溶液中浸泡1S—3S以洗去殘留CrO3,再進(jìn)行水洗后,迅速置于氫化鍍液中鍍銅,Dk=0.1—0.2A/dm.t=5—10m:n,水洗后浸稀H2So4活性,水洗后按原鍍鎳工藝條件補(bǔ)鍍鎳。

羅耀宗介紹在1.5%—4%的H2So4溶液中,陰極電解40s—2min,使已鈍化的亮鎳層活性。

袁詩璞建議套鉻前,在含氯化鎳,鹽酸的沖擊鎳溶液中閃鍍幾十秒,認(rèn)真洗盡后再套鉻。不足1um厚的閃鍍鎳層不會使亮鎳層失光,而且在閃鍍鈍鎳層上套鉻比在亮鎳層上容易得多(沖擊鎳鍍層是不含硫的鈍鎳層)。

參考文獻(xiàn):

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9.袁詩璞,答讀者問,電鍍與精飾,2008,27(1):36

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