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雙槽電沉積[NiFe/Cu/Co/Cu]n多層納米線

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-08-28??瀏覽次數(shù):464 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要:以多孔陽極氧化鋁(AAO)為模板, 采用雙槽法電沉積工藝制得高度有序的NiFe/Cu/Co/Cu多層納米線陣列。SEM測試結(jié)果表面,多

摘要:以多孔陽極氧化鋁(AAO)為模板, 采用雙槽法電沉積工藝制得高度有序的NiFe/Cu/Co/Cu多層納米線陣列。SEM測試結(jié)果表面,多層納米線直徑均一,與AAo模板孔徑基本一致。TEM下可觀察到多層納米線的層狀結(jié)構(gòu)。EDS分析發(fā)現(xiàn)所得納米線中NiFe磁性層是Ni79Fe21合金層。磁滯回線測試結(jié)果表明,多層納米線陣列具有明顯的垂直磁各向異性。測量納米線陣列的CPP-GMR,得到GMR最優(yōu)的納米線陳列結(jié)構(gòu)為[NiFe(25nm)/Cu(15nm)/Co(25nm)/Cu(15nm)]n,其最大GMR能達到87%,磁靈敏度可提高至0.33%/Oe.

   雙槽電沉積多層納米線巨磁電阻性能的研究.pdf
 

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