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ABS表面Ni-P-SiC納米復(fù)合鍍層工藝及性能研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-09??瀏覽次數(shù):396 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:ABS表面Ni-P-SiC納米復(fù)合鍍層工藝及性能研究

摘 要:研究了在ABS塑料上復(fù)合電鍍Ni—P-SiC(n)的工藝及性能,對(duì)影響鍍層質(zhì)量的幾大因素進(jìn)行了探討,從而確定了在ABS塑料上復(fù)合電鍍Ni-P-SiC(n)的最佳工藝以及相關(guān)參數(shù)。通過觀察分析表面形貌并對(duì)鍍層進(jìn)行顯微硬度等測(cè)試,確定了最佳工藝條件為:硫酸鎳250g/L,氯化鎳20∥L,磷酸5-20g/L,硼酸20g/L,SiC添加量5g/L,表面活性劑0.2g/L,pH值3~4,溫度40℃,電流密度0.01A/cm^2,攪拌速度1000r/min。由此工藝參數(shù)得到的Ni-P-SiC(n)復(fù)合鍍層與ABS塑料結(jié)合良好,鍍層均勻致密,顯微硬度可達(dá)952HV。[著者文摘]

ABS表面Ni-P-SiC納米復(fù)合鍍層工藝及性能研究.pdf
 

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