光學(xué)系統(tǒng)用鋁合金材料的硬質(zhì)氧化工藝：結(jié)論

【簡(jiǎn)介】

(1)在含有260—300 g／L硫酸、10～15 g／L草酸和10～20 g／L多元醇的溶液中，溫度5～7 ℃、電流密度2～3A/dm²拼條件下氧化50 min，可獲得厚度l5μm、顯微硬度450 HV、鏡面反射率低于8．4％的硬質(zhì)氧化膜層。該氧化膜能夠滿(mǎn)足光學(xué)變焦機(jī)構(gòu)對(duì)尺寸變化、表面硬度及反射率的質(zhì)量要求。

(2)硫酸質(zhì)量濃度、電流密度、氧化時(shí)間和溫度對(duì)氧化膜的生成和溶解平衡影響較大，因此對(duì)氧化膜的反射率也有明顯影響。

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[編輯：吳杰]