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【簡(jiǎn)介】
對(duì)酸性硫酸鹽體系Zn-SiO2復(fù)合鍍過(guò)程中氫侵入基體，在鍍層中的包容及放置過(guò)程中基體內(nèi)氫的逸出行為研究表明：Zn-SiO2復(fù)合鍍層比純鋅鍍層包容的氫多，氫的滲透也更容易；隨鍍層中SiO2含量的增加，鍍樣氫含量也增加，而基體中的氫含量在鍍層中SiO2達(dá)到一定量后便趨于穩(wěn)定；由于氫在Zn-SiO2鍍層中容易遷移，經(jīng)相同放置時(shí)間后，Zn-SiO2復(fù)合鍍樣基體氫含量低于純鋅鍍樣。缺口試樣恒應(yīng)變速率拉伸實(shí)驗(yàn)(10-4 mm．s-1)結(jié)果表明，自然放置，Zn-SiO2復(fù)合鍍?cè)嚇拥难由炻时燃冧\鍍樣恢復(fù)得快。
