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磁控濺射鍍膜技術(shù)最新進(jìn)展及發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè).pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-07-14??瀏覽次數(shù):267 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:磁控濺射鍍膜技術(shù)最新進(jìn)展及發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè).pdf

【簡(jiǎn)介】

磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué)及其他各種功能薄膜的重要手段。探討了磁控濺射技術(shù)在非平衡磁場(chǎng)濺射、脈沖磁控濺射等方面的進(jìn)步,說(shuō)明利用新型的磁控濺射技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的高速沉積、高純薄膜制備、提高反應(yīng)濺射沉積薄膜的質(zhì)量等,并進(jìn)一步取代電鍍等傳統(tǒng)表面處理技術(shù)。最后呼吁石化行業(yè)應(yīng)大力發(fā)展和應(yīng)用磁控濺射技術(shù)。

磁控濺射鍍膜技術(shù)最新進(jìn)展及發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè).pdf
 

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