【簡(jiǎn)介】
李劍虹1,李娜2
(1.遼寧石油化工大學(xué),遼寧撫順113001;2.東北大學(xué),遼寧沈陽(yáng)110004)
摘要:研究以常用的工業(yè)純鋁L2為實(shí)驗(yàn)材料,采用硫酸交流電陽(yáng)極氧化和電鍍黑鎳工藝來(lái)降低成本,著重分析溫度、電流密度、鎳離子的質(zhì)量濃度等對(duì)黑色膜層性能的影響。通過(guò)SEM表征、EDS及性能測(cè)試表明:在優(yōu)化的電鍍黑鎳工藝條件下可以獲得與工業(yè)純鋁L2基體結(jié)合力良好,且耐蝕性、耐熱性、吸光性均較好的黑鎳鍍層。
關(guān)鍵詞:鋁合金;硫酸;交流電;陽(yáng)極氧化膜;電鍍黑鎳
中圖分類(lèi)號(hào):TQ153文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1000-4742(2010)02-0037-04
前言
鋁合金黑色膜層不僅具有美麗的外觀,其光學(xué)、耐磨、耐濕性能也很好,而且具有高集熱效率及使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn);因此,被廣泛應(yīng)用于光學(xué)儀器、儀表、醫(yī)療器械、軍事裝備及照相機(jī)膜層等領(lǐng)域。黑色涂(鍍)膜技術(shù)在國(guó)內(nèi)起步較晚,對(duì)于黑色膜層的研究和應(yīng)用正逐步展開(kāi),很多學(xué)者在鋁合金黑色膜技術(shù)的工藝研究及應(yīng)用方面做了大量的工作。本文以常用的工業(yè)純鋁L2為實(shí)驗(yàn)材料,采用硫酸交流電陽(yáng)極氧化和電鍍黑鎳工藝來(lái)降低工藝成本;著重分析溫度、電流密度、鎳離子的質(zhì)量濃度等對(duì)黑色膜層性能的影響;探求在鋁合金表面進(jìn)行硫酸交流電陽(yáng)極氧化和電鍍黑鎳的最佳工藝條件。
1 實(shí)驗(yàn)
1.1 實(shí)驗(yàn)試樣及主要試劑
實(shí)驗(yàn)試樣為工業(yè)純鋁L2(各成分的質(zhì)量分?jǐn)?shù):Fe≤0.35%,Si≤0.25%,Cu≤0.05%,Mn≤0.03%,Al≥99.60%)。試樣面積為
主要實(shí)驗(yàn)試劑為硫酸、氧化鋁、氫氧化鈉、碳酸鈉、十二烷基磺酸鈉、硝酸、磷酸、氧化鉻、硼酸、硫酸鎳、硫酸鋅、硫氫酸銨。以上試劑均為分析純。
1.2 主要實(shí)驗(yàn)設(shè)備
主要實(shí)驗(yàn)設(shè)備為IM6E電化學(xué)工作站,德國(guó)ZAHNER公司;DZF-1B真空干燥箱,上海躍進(jìn)醫(yī)療器械廠;401MVD維氏顯微硬度計(jì),上海光學(xué)儀器廠;SSX-500掃描電子顯微鏡,日本島津公司;紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì),美國(guó)PE公司。
1.3 交流電陽(yáng)極氧化及電鍍黑鎳
先對(duì)鋁試樣堿洗處理,堿洗液的組成及工藝參數(shù)為:氫氧化鈉
2 結(jié)果與討論
2.1 鍍液溫度對(duì)黑鎳鍍層耐蝕性的影響
對(duì)鍍液溫度分別為
由圖1可知:在溫度研究范圍內(nèi),黑鎳鍍層的耐蝕性隨鍍液溫度的上升呈現(xiàn)先增加后減小的趨勢(shì),在溫度為
2.2 電流密度對(duì)黑鎳鍍層表觀形貌的影響
目視法觀察不同電流密度條件下制備的黑鎳鍍層表觀形貌。實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如表1所示。
由表1可知:陰極電流密度過(guò)低,由于Ni2+在陰極上的大量還原,使鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)提高而顯灰色。陰極電流密度過(guò)高,鍍層結(jié)晶粗糙有毛刺,且邊緣位置出現(xiàn)燒焦。這是由于放電金屬的水化離子在高電流密度下來(lái)不及脫水,帶著水化膜中的水一起沉積于鍍層中,阻礙了晶體的正常生長(zhǎng),從而影響了鍍層組織,導(dǎo)致鍍層燒焦。因此,電流密度對(duì)黑鎳鍍層的表觀形貌產(chǎn)生較大的影響。研究結(jié)果表明:電流密度為
2.3 硫酸鎳的質(zhì)量濃度對(duì)黑鎳鍍層成分的影響
圖2為硫酸鎳的質(zhì)量濃度對(duì)黑鎳鍍層成分的影響。由圖2可知:實(shí)驗(yàn)條件下制備的黑鎳鍍層中含有的非金屬相的質(zhì)量分?jǐn)?shù)>30%。鍍層中Zn,Ni,S的總質(zhì)量分?jǐn)?shù)隨硫酸鎳的質(zhì)量濃度的增加呈現(xiàn)先上升后下降的趨勢(shì)。硫酸鎳的質(zhì)量濃度為
綜上所述,初步判定電鍍黑鎳的優(yōu)化工藝條件為:NiSO4·6H2O
2.4 SEM和EDS分析結(jié)果
圖3為優(yōu)化工藝條件下制備的試樣的橫截面SEM照片。其中,左為鋁基體,右為膜層。
由圖3可知:優(yōu)化工藝條件下制備的鍍膜致密、均勻,且與基體之間結(jié)合緊密。
圖4中(a),(b),(c)分別是對(duì)元素Al,元素Ni和Zn,元素S,O,Ni,C的線掃描圖。從圖4可知:隨著與基體的距離由近到遠(yuǎn),Al的質(zhì)量分?jǐn)?shù)迅速下降,Ni,S的質(zhì)量分?jǐn)?shù)迅速上升的部分為陽(yáng)極氧化膜沉積黑鎳層;之后在Al的質(zhì)量分?jǐn)?shù)幾乎保持不變,而Ni,Zn,S的質(zhì)量分?jǐn)?shù)繼續(xù)升高達(dá)到最大值的這一部分為黑鎳鍍層。
2.5 黑色氧化膜的性能測(cè)試
對(duì)黑色氧化膜進(jìn)行結(jié)合力測(cè)試。劃格實(shí)驗(yàn)測(cè)試結(jié)果為2級(jí);折彎4次,膜層斷口無(wú)起皮剝落等現(xiàn)象,但有微小裂紋。
對(duì)黑色氧化膜進(jìn)行電化學(xué)阻抗測(cè)試,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖5所示。圖中Z′和Z″分別代表阻抗Z的實(shí)部和虛部。由圖5可知:黑鎳鍍層呈現(xiàn)出近似半圓形的單一容抗弧。這說(shuō)明鍍層在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%的NaCl溶液中的腐蝕過(guò)程為電化學(xué)控制過(guò)程。較大的圓弧直徑,表明黑鎳鍍層的耐蝕性能較好。
將交流電陽(yáng)極氧化膜電鍍黑鎳的試樣,置于
采用紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì),測(cè)定黑鎳鍍層表面的全反射率,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如圖6所示。經(jīng)計(jì)算得到電鍍黑鎳膜的光譜吸收率為93.3%,說(shuō)明優(yōu)化工藝條件下制備的黑鎳鍍層對(duì)光的吸收性較好。
3 結(jié)論
通過(guò)對(duì)電鍍黑鎳過(guò)程中鍍液溫度、電流密度、硫酸鎳的質(zhì)量濃度對(duì)黑鎳鍍層影響的分析,得到工業(yè)純鋁L2交流電陽(yáng)極氧化膜電鍍黑鎳的優(yōu)化工藝條件:NiSO4·6H2O