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電沉積CeO2—Ni—W—P—SiC復(fù)合鍍層組織結(jié)構(gòu)的研究.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2010-01-25??瀏覽次數(shù):201 ??關(guān)注:加關(guān)注
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【簡介】

稀土元素因其獨特的理化性能而被廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域。為得到理想的復(fù)合材料,在Ni-W-P-SiC復(fù)合電鍍液中加入稀土氧化物二氧化鈰制得CeO2-Ni-W-P0SiC復(fù)合鍍層。利用電子探針X射線能譜儀、掃描電子顯微鏡和X射線衍射儀分析了鍍層成分、形貌及組織結(jié)構(gòu)。鍍層中含4%~7%碳化硅和5%~14%二氧化鈰,在鍍態(tài)下為蜚 晶態(tài),在200℃時開始晶化,至500℃時一轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài),熱處理對鍍層表面形貌遠(yuǎn)

電沉積CeO2—Ni—W—P—SiC復(fù)合鍍層組織結(jié)構(gòu)的研究.pdf
 

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