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【簡介】
研究了電沉積CoNiFe合金薄膜鍍液中主鹽離子濃度對膜層磁性能的影響。用振動樣品磁強計(VSM)和四探針等方法測試分析了膜層的物理性能。結(jié)果表明膜層的物理性能與合金鍍液中的主鹽離子濃度密切相關(guān)，鍍液中Ni^2+、Fe^2+、Co^2+濃度分別為0．2、0．012和0．063mol／L時，電沉積的CoNiFe舍金膜層的電磁性能較佳。其飽和磁化強度Bs達1．9T，矯頑力Hc為91．5A／m，電阻率為45μΩ·cm，在1MHz下磁導(dǎo)率μi為602。
【簡介】
研究了電沉積CoNiFe合金薄膜鍍液中主鹽離子濃度對膜層磁性能的影響。用振動樣品磁強計(VSM)和四探針等方法測試分析了膜層的物理性能。結(jié)果表明膜層的物理性能與合金鍍液中的主鹽離子濃度密切相關(guān)，鍍液中Ni^2+、Fe^2+、Co^2+濃度分別為0．2、0．012和0．063mol／L時，電沉積的CoNiFe舍金膜層的電磁性能較佳。其飽和磁化強度Bs達1．9T，矯頑力Hc為91．5A／m，電阻率為45μΩ·cm，在1MHz下磁導(dǎo)率μi為602。
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