??
【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】200610028008.4
【公開(kāi)(公告)號(hào)】CN1865500
【申請(qǐng)人(專利權(quán))】復(fù)旦大學(xué)
【申請(qǐng)日期】2006-6-22 0:00:00
【公開(kāi)(公告)日】2006-11-22 0:00:00
【專利簡(jiǎn)介】
本發(fā)明屬于化學(xué)鍍銅技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種在硅片上鍍銅的新方法。該方法是在含銅鹽的氫氟酸溶液中，在硅片表面引入銅晶種作為催化劑，進(jìn)而進(jìn)行鍍銅。由于銅的自催化作用，可以快速地引發(fā)化學(xué)鍍鍍液中銅離子的還原，使得還原出的銅快速地沉積在基底的表面上，得到牢固、光亮和均勻的銅鍍層。本發(fā)明方法操作簡(jiǎn)便，價(jià)格低廉，同時(shí)又提高了銅膜的純度和導(dǎo)電性能。
