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【專利號(申請?zhí)?】200410065651.5
【公開(公告)號】CN1632175
【申請人(專利權(quán))】徐菁
【申請日期】2004-11-9 0:00:00
【公開(公告)日】2005-6-29 0:00:00
一種降低鍍層氫脆程度的方法，是在電鍍槽的陰極端設(shè)置有超聲波發(fā)生器，電鍍過程中向鍍件發(fā)射超聲波。利用超聲波產(chǎn)生的空穴效應(yīng)，轟擊鍍件表面產(chǎn)生的小分子氫，使其脫離，減少鍍件表面的小分子氫，以利于鍍層金屬原子的沉積，產(chǎn)生致密的鍍層，防止了氫脆現(xiàn)象，同時，有利于提高鍍層形成的速度，提高了生產(chǎn)效率。
