|
可能原因 |
原因分析及處理方法 |
|
(1)硫酸含量過(guò)高 |
含氟硅酸鍍液的缺點(diǎn)是對(duì)工件、陽(yáng)極以及鍍槽的腐蝕性大,維護(hù)要求高,所以不能完全代替含sOi一的鍍液,但為了改善鍍層的光亮度,很多廠家將SO42-與SiF62一混合使用, 使用量約為0.3--0.6g/L,但如果硫酸含量過(guò)高,會(huì)出現(xiàn)工件鍍層發(fā)黃或無(wú)鉻層沉積 處理方法:用BaC03除去多余的SiF62一,過(guò)濾鍍液 |
|
(2)滾筒轉(zhuǎn)速太快 |
鍍鉻滾筒是用金屬絲網(wǎng)制成的圓形滾筒,筒體中間安裝陽(yáng)極,金屬絲網(wǎng)作陰極,靠金屬自重與陰極絲網(wǎng)接觸而通電,因此電鍍時(shí),電流是斷斷續(xù)續(xù)的,若滾筒的轉(zhuǎn)速過(guò)大,部分工件出現(xiàn)長(zhǎng)時(shí)間不導(dǎo)電的現(xiàn)象,而無(wú)鉻層沉積,此外,工件還會(huì)被SiF62一腐蝕 處理方法:控制滾筒轉(zhuǎn)速為l.5~3r/min |
|
(3)滾筒上鍍層過(guò)厚 |
滾筒的金屬絲網(wǎng)作為陰極,有鉻的沉積,由于鉻鍍層的導(dǎo)電性差,若不退除,工件與絲網(wǎng)的接觸導(dǎo)電不好,無(wú)鉻層沉積 處理方法:定期用鹽酸退除滾筒上的鉻層 |
|
(4)鍍好亮鎳后放置時(shí)間過(guò)長(zhǎng) |
處理方法: a.加強(qiáng)工序間協(xié)調(diào)配合,嚴(yán)禁工序間的停滯; b.重新活化后,再電鍍 |
|
(5)電流密度過(guò)低 |
處理方法: a.帶電入槽,開始時(shí)使用2倍沖擊電流電鍍,沖擊時(shí)間約為l~2min; b.準(zhǔn)確測(cè)量受鍍工件面積,合理設(shè)定電流密度 |










