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電鍍鎳基復(fù)合鍍層在工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛。電鍍耐磨的鎳基復(fù)合鍍層的工藝規(guī)范見下表。作為固體微粒以SiC用得最多。
電鍍鎳基耐磨復(fù)合鍍層工藝規(guī)范
|
|
溶 液 | ||||
|
成分和操作條件 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
|
含量(g／L) | |||||
|
硫酸鎳(NiS04·7H20) |
300 |
|
300 |
400 |
|
|
氨基磺酸鎳[Ni(NH2S03)2·4H20] |
|
350 |
|
|
500 |
|
氯化鎳(NiCI2·6H20) |
45 |
7.5 |
45 |
10 |
15 |
|
硼酸(H3B03) |
38 |
30 |
40 |
50 |
45 |
|
其他 |
|
|
|
0P～lO 0.4 |
糖精 3 |
|
微粒名稱 |
A1203 |
A1203 |
siC |
SiC |
SiC |
|
微粒粒度／μm |
<1 |
3.5～14 |
1～3 |
3 |
1～4.5 |
|
微粒含量／(g／L) |
30 |
150 |
100 |
70～120 |
15 |
|
pH |
5～5.5 |
3～3.5 |
≈4 |
4 |
4 |
|
溫度／℃ |
50 |
50 |
50 |
48～52 |
57 |
|
電流密度／(A／dm2) |
3 |
3 |
5 |
5 |
20 |
|
鍍層中微粒含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))(％) |
7 |
7 |
2.5～4 |
11 |
2.5～3 |
|
鍍層中其他含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))(％) |
|
|
|
|
|
|
|
溶 液 | ||||
|
成分和操作條件 |
6 |
7 |
8 |
9 |
10 |
|
含量(g／L) | |||||
|
硫酸鎳．(NiS04·7H20) |
250 |
200～250 |
250 |
|
250 |
|
氨基磺酸鎳[Ni(NH2S03)2·4H20] |
|
|
|
450 |
|
|
氯化鎳(NiCL2·6H20) |
15 |
|
35 |
10 |
50 |
|
硼酸(H3B03) ／ |
40 |
30～35 |
40 |
40 |
30 |
|
其他 |
|
氯化納 10～l4 硫酸鎂 30～40 |
亞磷酸20 |
亞磷酸 10～30 |
檸檬酸納lO 次磷酸鈉 18～20 陽離子表面 活性劑適量 |
|
|
溶 液 | |||||
|
成分和操作條件 |
6 |
7 |
8 |
9 |
10 | |
|
含量(g／L) | ||||||
|
微粒名稱 |
金剛石 |
Si02 |
SiC |
SiC |
WC | |
|
微粒粒度/μ/m |
7～lO |
<5 |
5 |
5.5 |
2.5 | |
|
微粒含量／(g／L) |
170 |
5～30 |
100 |
100 |
75 | |
|
pH |
4.4 |
5～5.5 |
2.5 |
1.2～1.6 |
1.5～1.8 | |
|
溫度/℃ |
45 |
35～40 |
60 |
50 |
62 | |
|
電流密度／(A/dm2) |
10 |
1～1.5 |
3 |
15 |
2 | |
|
鍍層中微粒含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))(％) |
20(體積) |
>0.4 |
10.1 |
7 |
43.2 | |
|
鍍層中其他含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))(％) |
|
|
P7.8 |
P3.5～6 |
P≈l2 、 | |
電鍍自潤滑與防粘著的鎳基復(fù)合鍍層的工藝規(guī)范見表39-4。其中Ni-MoS2、Ni-(CF)n主要在低負(fù)荷條件下使用。Ni-(CF2-CF2)n,在大氣與高真空環(huán)境下，其摩擦系數(shù)均無變化，但鍍層耐熱性較差。Ni-BN有很好的潤滑性能和低的摩擦系數(shù)，而且耐熱性優(yōu)良。
作為抗粘著的復(fù)合鍍層，只有疏水的Ni-(CF)n、Ni-(CF2-CF2)n可以使用
電鍍鎳基自潤滑復(fù)合鍍層工藝規(guī)范
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|
溶 液 | ||||||||
|
成分和操作條件 |
l |
2 |
3 |
4 |
5 6 |
7 | |||
|
含量／(g／L) | |||||||||
|
硫酸鎳(NiSO4·7H20) |
310 |
|
250 |
250 |
250 |
300 |
240 | ||
|
氨基磺酸鎳[Ni(NH2SO3)2·4H20] |
|
320 |
|
|
|
氟化鎳 70 |
| ||
|
氯化鎳(NiCl2.6H20) |
50 |
30 |
45 |
45 |
45 |
|
45 | ||
|
硼酸(H3B03) |
40 |
35 |
40 |
40 |
30 |
30 |
30 | ||
|
十二烷基硫酸鈉(C12H25S04Na) |
|
|
|
|
0.1 |
糖精l |
亞磷酸1-2 | ||
|
微粒名稱 |
MoS2 |
MoS2 |
BN |
(CF)n |
(CF2-CF2)①n |
(CF)n |
石墨 | ||
|
微粒粒度／μm |
3 |
2～30 |
<0.5 |
<0.5 |
1.5～2 |
10 |
5～15 | ||
|
微粒含量／(g／L) |
5 |
200 |
30 |
60 |
25mL／L |
300 |
5 | ||
|
pH |
1.2 |
2 |
5 |
4.3 |
4.3 |
3 |
|
1.5 | |
|
溫度/℃ |
20～35 |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
55 | ||
|
電流密度／(A／dm2) |
l |
10 |
2.5 |
10 |
10 |
6 |
2 |
5 | |
|
鍍層中微粒含量(體積分?jǐn)?shù))(％) |
24 |
12 |
60 |
25 |
9 |
6.5 |
14.6 |
17 |
3～4(質(zhì)量) |
①(CF2-CF2)n為60％的懸浮液。
另外，在鍍鎳溶液中加入熒光顏料，可得到熒光彩色復(fù)合鎳層。其工藝規(guī)范如下：
溶液成分 硫酸鎳(NiS04·7H20) 200g／L；
氯化鎳(NiCl2·6H20) 50g／L；
硼酸(H3B03) 30g／L；
密胺樹脂熒光顏料(粒徑3．5～4．5μm)； 20～30g／L；
pH 4．4；
溫度 45℃；
電流密度 2～5 A／dm2。
