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公開日 20070417
發(fā)明人 BASOL B M, TALLEH H
提供了一種在有凸起或凹陷的晶片表面制備性質(zhì)均勻的導(dǎo)電薄膜的方法。在制造的過程中，工件旋轉(zhuǎn)并水平移動，而鍍液以一定的流速輸送到晶片表面，然后在工件表面及電極之間施加一個電位差。工件以規(guī)定的轉(zhuǎn)速(單位r/min)繞軸轉(zhuǎn)動，因此工件的邊緣部分獲得由旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的第一線速度。而水平移動又賦予了工件第二線速度。第二線速度可能大于第一線速度。此外，晶片不旋轉(zhuǎn)。
