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電鍍鎳溶液中雜質(zhì)的影響和去除

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-10-24??瀏覽次數(shù):1599 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:鍍鎳溶液的純凈度要求較高,受外來雜質(zhì)污染后,電鍍鎳層質(zhì)量會(huì)有很大的影響。例如某廠鍍鎳零件的大電流處泛有黑色小點(diǎn)(鍍件的下

鍍鎳溶液的純凈度要求較高,受外來雜質(zhì)污染后,電鍍鎳層質(zhì)量會(huì)有很大的影響。

例如某廠鍍鎳零件的大電流處泛有黑色小點(diǎn)(鍍件的下面部位及其周邊),而小電流處呈灰黑色(鍍件的中心部位和深凹部位),廠方錯(cuò)誤地認(rèn)為是受到有機(jī)雜質(zhì)污染進(jìn)行處理,結(jié)果鍍鎳層故障未見好轉(zhuǎn)。其實(shí)這種情況并不是溶液中有有機(jī)物,因?yàn)橛袡C(jī)雜質(zhì)會(huì)使鎳鍍層烏亮、結(jié)合力明顯降低,而電鍍鎳層表面出現(xiàn)黑點(diǎn)和灰黑色有可能受到金屬雜質(zhì)的污染,尤其是受到鉛雜質(zhì)的污染可能性更大。現(xiàn)場考察發(fā)現(xiàn)鍍槽是老式鉛襯里槽,液面以下部位發(fā)現(xiàn)附有一層黃褐色可擦去的掛霜(鉛的氧化物),此鉛襯里槽與一塊鎳板斜倚在槽壁,使得上部陽極鎳板正好觸及這塊鎳板的腰部,當(dāng)電流通過陽極板傳到掉入槽底鎳板上,然后又把電流傳到鉛襯槽,此時(shí)鉛襯槽就成了陽極,受到氧化產(chǎn)生黃褐色的氧化鉛,其中部分鉛離子就進(jìn)入鍍液,產(chǎn)生鍍層發(fā)黑的故障。鍍鎳液受鉛離子污染目前多按電解法處理。先將溶液抽出來,把槽壁和陽極表面的氧化鉛洗刷干凈,然后將溶液過濾后回入槽內(nèi),以0.1A/dm2~0.2A/dm2的電流密度先處理3晝夜,到第4天按正常工藝條件試鍍,故障排除。

這個(gè)實(shí)際故障說明電鍍?nèi)芤旱木S護(hù)與保養(yǎng)是很重要的,尤其是鍍液雜質(zhì)的影響、雜質(zhì)的來源非常復(fù)雜,出了故障要慎重考慮故障原因,加強(qiáng)檢查和分析,才能采取相應(yīng)措施,決不可盲目處理,否則必然會(huì)走彎路,電鍍故障得不到及時(shí)排除。

1 銅雜質(zhì)的影響和去除

鍍鎳液中銅雜質(zhì)含量低可使低電流密度區(qū)鍍鎳層灰暗、粗糙;含量高可使低電流密度區(qū)鍍層發(fā)黑,出現(xiàn)海綿狀鍍層。二般光亮鍍鎳液中銅雜質(zhì)含量不允許超過0.01g/L;普通鍍鎳液由于pH值稍高,也不超過0.3g/L。對少量銅雜質(zhì)鍍鎳液,可用電解法去除(pH=2左右,Dk=0.1A/dm2~0.3A/dm2)。較多銅雜質(zhì)可用亞鐵氰化鈉化學(xué)方進(jìn)行處理:

2Cu2++Na4[Fe(CN)6]→Cu2[Fe(CN)6]↓十4Na+

去除方法是向故障鍍鎳液中加入溶解好的亞鐵氰化鈉溶液,劇烈攪拌約30min,然后過濾除去沉淀即可試鍍。

2 鋅雜質(zhì)的影響和去除

鍍鎳液中鋅雜質(zhì)在0.02g/L~0.06g/L之間,獲得的電鍍鎳層亮而發(fā)脆;當(dāng)鍍液中鋅雜質(zhì)含量大于0.06g/L時(shí),低電流密度區(qū)鍍層呈灰黑色,更高含量鋅可使電鍍鎳層產(chǎn)生條紋和針孔。鋅雜質(zhì)也可用電解法處理,但效果不明顯。鍍液中若鋅雜質(zhì)含量少可用市售掩蔽劑進(jìn)行掩蔽,如鍍鎳液中含鋅l2.5mg/L~50mg/L,可用0.8mg/L~2mg/L的NT掩蔽劑進(jìn)行處理。一些新的掩蔽劑既可以掩蔽鍍鎳液中的鋅雜質(zhì),又可以掩蔽銅雜質(zhì)。當(dāng)鍍鎳液被鋅雜質(zhì)或鋅雜質(zhì)和銅雜質(zhì)同時(shí)污染時(shí),加入這種掩蔽劑,就可以排除鍍鎳液中鋅和錒雜質(zhì)的影響。

當(dāng)鍍鎳液中鋅雜質(zhì)含量較高時(shí),可先用CaCO3(或BaCO3),提高鍍液pH至5.5左右,再用NaOH[或Ni(OH)2]提高鍍液pH值至6.2,加熱至65℃~70℃,攪拌30min~60min,靜置后過濾。

若采用CaCO3,提高鍍液的pH值,反應(yīng)后可生成CaSO4,在低溫時(shí)硫酸鈣溶解度大(0℃時(shí)為0.75,100℃時(shí)為0.15),所以應(yīng)趁熱過濾。如待鍍液冷卻后再過濾,則沉淀的硫酸鈣將重新溶解,這種溶解的硫酸鈣,在電鍍時(shí)將會(huì)使鍍鎳層產(chǎn)生類似針狀的粗糙表面。

3 鐵雜質(zhì)的影響和去除

因?yàn)殄冩囈褐械蔫F在pH>4.7時(shí)就能形成氫氧化物沉淀,并夾雜在鍍鎳層中而使鍍層粗糙、出現(xiàn)針孔和脆性增大,鍍層的孔隙率增加,光亮度下降。所以在光亮鍍鎳液中,F(xiàn)e3+含量不允許大于0.08g/L。

去除鍍鎳液中的鐵雜質(zhì),一般也是用高pH值處理。先加30%的雙氧水1mL/L,將Fe2+氧化為Fe3十,然后加熱至65℃~70℃,加入CaCO3(或BaCO3)提高pH值至5.5左右,攪拌30min~60min,趁熱過濾除去沉淀,再調(diào)整鍍鎳液的pH值和成分后,即可正常鍍鎳。

4 六價(jià)鉻的影響和去除

鍍鎳液中六價(jià)鉻離子會(huì)顯著降低陰極電流效率,在六價(jià)鉻離子含量達(dá)0.01g/L時(shí),陰極電流效率約降低5%~l0%,鍍液中六價(jià)鉻離子含量更高時(shí),低電流密度區(qū)鍍不上鍍層,高電流密度處鍍層脆裂。嚴(yán)重時(shí)整個(gè)陰極表面上得不到鎳層。

去除六價(jià)鉻離子可用保險(xiǎn)粉法、硫酸亞鐵法或高錳酸鉀法等。

5 硝酸根的影響和去除

硝酸根對鍍鎳的影響較大,它能顯著降低陰極電流效率。少量硝酸根,能使低電流密度處鍍不上鎳鍍層;稍多一些的硝酸根能使鍍鎳層光澤變差,高電流密度區(qū)出現(xiàn)黑色條紋;更多的硝酸根就會(huì)使整個(gè)零件鍍不上鎳層。

去除硝酸根可以采用電解法,電解去除鍍鎳液中的硝酸根以低pH值和高溫為好。低pH值有利于硝酸根在陰極上的還原,高溫可以使硝酸根還原產(chǎn)生的氣體在溶液中的溶解度降低,防止它溶入后重新污染鍍鎳液,所以一般電解去除硝酸根的條件為:鍍液pH=1~2,溫度60℃~70℃,陰極電流密度先用lA/dm2~2A/dm2,使NO3-在陰極還原為NH3逸出,然后逐漸降低至0.2A/dm2,直至鍍液正常為止。

但是此法缺點(diǎn)是電解費(fèi)時(shí)費(fèi)工,對連續(xù)生產(chǎn)的自動(dòng)線或手工生產(chǎn)應(yīng)付急件,都令人頭痛;鍍鎳液調(diào)低pH值容易,要調(diào)回到允許值則很麻煩,要么加碳酸鋇后徹底過濾,要么用5%以下苛性鈉稀溶液在強(qiáng)烈攪拌下慢慢加入。此時(shí),鍍液沖稀不少,體積大增;要么急于求成,主鹽鎳離子成氫氧化鎳沉淀損失不少。有人加人對鍍液無害的還原劑(NaHSO3稀溶液),靠氧化還原反應(yīng)直接去除硝酸根取得了很好效果:第一步,通過霍耳槽試驗(yàn)確定應(yīng)加入的NaHSO3量;第二步,按計(jì)算量的110%在不斷強(qiáng)烈攪拌下慢慢加入稀NaHSO3溶液(以減少因生成SO2而過量消耗的HSO3-),繼續(xù)攪拌約5min;第三步,按lmL/L~2mL/L量加入30%的H2O2,加溫(也可直接在熱的鍍鎳液中處理)到55℃~60℃;攪拌反應(yīng)約lh,氧化殘存的NaHS03并分解多余的H2O2。無需過濾、調(diào)pH值到工藝范圍即可試鍍(光亮劑依情況調(diào)整)。大生產(chǎn)應(yīng)用效果良好,處理一次耗時(shí)2h左右,物耗也很小。

6 有機(jī)雜質(zhì)的影響和去除

鍍鎳液中有機(jī)雜質(zhì)的種類很多,影響也不相同,有的使鎳層發(fā)霧、發(fā)花、變暗,有的卻使鎳層亮而發(fā)脆,還有的使鍍鎳層產(chǎn)生針孔或產(chǎn)生橘皮狀。去除鍍鎳液中的有機(jī)夾雜可以采取雙氧水一活性炭、高錳酸鉀一活性炭等方法去除。如雙氧水一活性炭處理的具體處理方法為:用硫酸調(diào)鍍液pH=3.5,向其加人30%的雙氧水1mL/L~3mL/L,加熱鍍液至65℃~70℃,攪拌30min~60min;然后再加入3g/L~5g/L活性炭,攪拌30min左右后靜置過濾;分析化驗(yàn)調(diào)整鍍鎳液成分及pH值后試鍍。

7 油類雜質(zhì)的影響和去除

油類雜質(zhì)會(huì)使鍍鎳層發(fā)花、發(fā)霧,產(chǎn)生針孔,嚴(yán)重時(shí)影響鍍層的結(jié)合力。這類雜質(zhì)的去除方法是:將鍍鎳液加熱至60℃左右;在攪拌下加人0.8g/L~1g/L十二烷基硫酸鈉,繼續(xù)攪拌60min(使十二烷基硫酸鈉對油類雜質(zhì)起乳化作用);再加入3g/L~5g/L活性炭,攪拌30min后靜置過濾;分析化驗(yàn)調(diào)整鍍液成分后試鍍。

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