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一種由聚甲基硅氧烷制備SiO2薄膜的簡易方法

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-09-25??瀏覽次數(shù):468 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要:本文報道一種由聚甲基硅氧烷制備SiO2薄膜的簡易方法。以甲基三乙氧基硅烷為起始物,經(jīng)水解和縮聚反應(yīng)合成聚甲基硅氧烷(MeS

摘要:本文報道一種由聚甲基硅氧烷制備SiO2薄膜的簡易方法。以甲基三乙氧基硅烷為起始物,經(jīng)水解和縮聚反應(yīng)合成聚甲基硅氧烷(MeSiO1.5)n,在有機溶劑中配制成旋涂液后,經(jīng)旋轉(zhuǎn)涂覆(spin-coating)和熱固成型制備了SiO2薄膜。采用FT-IR、TGA、GPC對聚甲基硅氧烷及薄膜進行了結(jié)構(gòu)表征。分析了聚甲基硅氧烷旋涂液的濃度、黏度及勻膠機的轉(zhuǎn)速和時間對涂膜效果的影響。并用場發(fā)射SEM對所得的薄膜進行了分析。結(jié)果表明:薄膜堅固、耐熱、致密高,在納米尺度范圍未出現(xiàn)裂縫和氣孔。固可作為多孔SiO2薄膜的基材。

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