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公開日 20090101
發(fā)明人 NASU A, CHEN S-F, CHEN Y-T, LIN T-A, HSIUNG C-S
地址 Air Liquide Intellectual Property, 2700 Post Oak Boulevard, Suite 1800, Houston, TX 77056, US
化學(xué)鍍鎳鎢磷層用于薄膜晶體管(TFT)銅柵制程。鎳鎢磷沉積工藝包括如下步驟：(1)采用紫外光、臭氧溶液及/或混堿溶液清潔基體表面;(2)采用稀酸對基體表面進行微刻蝕;(3)采用SnCl2和PdCl2溶液催化基體表面;(4)采用還原劑溶液對基體表面進行表調(diào);(5)沉積鎳鎢磷。在特定條件下沉積的鎳鎢磷層對玻璃基材和銅層都有良好附著，具有很好的銅阻擋性能。鎳鎢磷層可用于薄膜晶體管銅柵制程(如平板顯示器面板)的膠粘層、保護層和/或阻擋層
