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Zn—SiO2復(fù)合鍍工藝研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-14??瀏覽次數(shù):408 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:Zn—SiO2復(fù)合鍍工藝研究

摘 要:采用循環(huán)電鍍實(shí)驗(yàn)裝置,研究了硫酸鹽體系電沉積Zn-SiO2復(fù)合鍍層的工藝。探討了鍍液中的SiO2加入量、陰極電流密度、pH值等對(duì)鍍層中SiO2含量、陰極電流效率、鍍層微觀形貌的影響,確定了Zn-SiO2得合鍍最佳工藝參數(shù)。

Zn—SiO2復(fù)合鍍工藝研究.pdf
 

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