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摘 要:對究了沉降法電鑄Ｎｉ－ＰＳＺ復合鍍層工藝，對表面活性劑、陰極電流密度、攪撣間閑時間等工藝條件進行了摸索，結(jié)果表明，通過選擇 表面活性劑和控制一定的工藝條件，可獲得不同ＰＳＺ含量的均勻致密的復合鍍層，鍍層的硬度和高溫氧化性能隨著ＰＳＺ微粒復合量的增加而提高。
摘 要:對究了沉降法電鑄Ｎｉ－ＰＳＺ復合鍍層工藝，對表面活性劑、陰極電流密度、攪撣間閑時間等工藝條件進行了摸索，結(jié)果表明，通過選擇 表面活性劑和控制一定的工藝條件，可獲得不同ＰＳＺ含量的均勻致密的復合鍍層，鍍層的硬度和高溫氧化性能隨著ＰＳＺ微粒復合量的增加而提高。
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