摘 要:研究在檸檬酸鉀和草酸銨鍍液體系中鍍鈀工藝。結(jié)果表明,采用本實驗室研制的添加劑XP-4和XP-7以及PPS和FF,則可在電流密度0.5-3.5A/dm^2,溫度40 ̄60℃的寬范圍內(nèi)獲得全光亮的鈀電沉積層。鈀沉積的電流效率和沉積速度在鍍液中鈀含量為10g/L,1.0A/dm^2的條件下分別可達到92.0%和0.25μm/min,并隨電流密度和鍍液中鈀含量的變化而改變,XP-4和XP-7均阻化鈀的電沉
摘 要:研究在檸檬酸鉀和草酸銨鍍液體系中鍍鈀工藝。結(jié)果表明,采用本實驗室研制的添加劑XP-4和XP-7以及PPS和FF,則可在電流密度0.5-3.5A/dm^2,溫度40 ̄60℃的寬范圍內(nèi)獲得全光亮的鈀電沉積層。鈀沉積的電流效率和沉積速度在鍍液中鈀含量為10g/L,1.0A/dm^2的條件下分別可達到92.0%和0.25μm/min,并隨電流密度和鍍液中鈀含量的變化而改變,XP-4和XP-7均阻化鈀的電沉