摘 要:本文探討了ＰＭＮ系多層陶瓷電容器的靜態(tài)三層鍍工藝。分析了工藝參數(shù)驛ＭＬＣ電性能的影響，表明靜態(tài)電鍍對(duì)ＭＬＣ的電容量，經(jīng)緣電阻影響不明顯，而介質(zhì)損耗變化劇烈；和鍍Ｚ／Ｓｎ相比，鍍Ｎｉ過程對(duì)ＭＬＣ的性能影響較大。
高性能低燒MLC三層鍍工藝研究（一）靜態(tài)電鍍.pdf
??
