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添加劑對(duì)鈀電沉積層氫含量和內(nèi)應(yīng)力的影響

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-13??瀏覽次數(shù):307 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:添加劑對(duì)鈀電沉積層氫含量和內(nèi)應(yīng)力的影響

摘 要:采用電化學(xué)方法研究了添加劑對(duì)鈀電沉積層氯含量和應(yīng)力的影響。結(jié)果表明,含有光亮劑的鍍液中所獲得的鈀電沉積層氫含量較無(wú)添加劑的顯著提高,表面活性劑可極大降低鍍層氫含量。添加劑的協(xié)同作用使鍍層應(yīng)力狀態(tài)發(fā)生變化;在電沉積初期,沉積層內(nèi)應(yīng)力變化較大,隨后逐漸趨于穩(wěn)定。

添加劑對(duì)鈀電沉積層氫含量和內(nèi)應(yīng)力的影響.pdf
 

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