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非晶態(tài)鉻鍍層表面的X光電子能譜研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-13??瀏覽次數(shù):328 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:非晶態(tài)鉻鍍層表面的X光電子能譜研究

摘 要:非晶態(tài)鉻鍍層具有優(yōu)良的物理、化學(xué)和機(jī)械性能,根據(jù)非晶態(tài)鉻鍍層的特點(diǎn)用X-射線光電子能譜(XPS)對于進(jìn)行表面元素全分析和Ar^+濺射濃度剖析,發(fā)現(xiàn)所獲非晶態(tài)鉻鍍層由Cr、O和C等元素組成。O和C元素不僅存在于鍍層表面,而且存在于整個鍍層中。其中O是以-COOH和吸附H2O及Cr的氧化物形式存在;C以-COOH和石墨存在;在Cr則以Cr、Cr2O3、CrO2及CrOOH形式存在。

非晶態(tài)鉻鍍層表面的X光電子能譜研究.pdf
 

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