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黑色金屬基體上化學(xué)鍍鎳鍍層孔隙率的電化學(xué)測(cè)定

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-13??瀏覽次數(shù):510 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:黑色金屬基體上化學(xué)鍍鎳鍍層孔隙率的電化學(xué)測(cè)定

摘 要:一種無(wú)損電化學(xué)測(cè)量法已用來(lái)測(cè)定鋼和灰鑄鐵上的化學(xué)鍍鎳鍍層的孔隙率。這種測(cè)量方法是建立在測(cè)定由化學(xué)鍍鎳層與因疏孔而暴露在腐蝕電解液中的黑色金屬基體構(gòu)成的雙層金屬的混合電位之上的,測(cè)出的孔隙率是以鍍層表面上疏孔面積所占的百分率表示的,這種測(cè)定的精確度可與一般的孔隙率試劑試驗(yàn)和監(jiān)霧試驗(yàn)相媲美。電化學(xué)技術(shù)比孔隙率試劑試驗(yàn)更為靈敏,并且可以在比后者短得多的時(shí)間內(nèi)不破壞試樣外觀下提供與鹽霧試驗(yàn)相比擬的孔隙率。

黑色金屬基體上化學(xué)鍍鎳鍍層孔隙率的電化學(xué)測(cè)定.pdf
 

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