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摘 要:使用無限微元法對霍爾槽陰極初級電流分布進行了理論探討，推導(dǎo)出霍爾槽陰極初級電流分布公式為：Ｄｋ＝Ｉｍ（Ａ＋Ｂｌｇ（Ｌｓｉｎθ＋α）），公式所得結(jié)果能正確解釋電鍍生產(chǎn)中的一些因素對鍍層質(zhì)量的影響，并對非直流電鍍具有一定的指導(dǎo)意義。
摘 要:使用無限微元法對霍爾槽陰極初級電流分布進行了理論探討，推導(dǎo)出霍爾槽陰極初級電流分布公式為：Ｄｋ＝Ｉｍ（Ａ＋Ｂｌｇ（Ｌｓｉｎθ＋α）），公式所得結(jié)果能正確解釋電鍍生產(chǎn)中的一些因素對鍍層質(zhì)量的影響，并對非直流電鍍具有一定的指導(dǎo)意義。
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