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鈀鎳合金電沉積層的XRD研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-13??瀏覽次數(shù):491 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:鈀鎳合金電沉積層的XRD研究

摘 要:利用X-射線衍射技術(shù)對鈀鎳合金鍍的微觀結(jié)構(gòu),特別是晶體的微晶尺寸,晶胞參數(shù),微觀應(yīng)力,擇優(yōu)取向等進行了研究。實驗發(fā)現(xiàn),該合金鍍層為面心立方的固溶體結(jié)構(gòu),呈(200)擇優(yōu)取向,晶胞參數(shù)隨鍍層中鎳含量的增大而減小,鍍層的微晶尺寸及微觀應(yīng)力等隨鍍層中鎳含量的增大而增大。

鈀鎳合金電沉積層的XRD研究.pdf
 

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