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摘 要:采用電化學(xué)、分光光度、Ｘ射線和金相顯微技術(shù)等方法研究Ｎｉ－Ｗ合金電沉積電流效率，沉積層的組成、結(jié)構(gòu)和表面形態(tài)。結(jié)果表明，隨著鍍液中鎢酸鈉濃度提高，合金沉積層中的Ｗ含量變化不大，沉積電流效率提高；形成轉(zhuǎn)換固深的合金沉積層Ｘ射線衍射（ＸＲＤ）峰強(qiáng)度降低，趨于矮胖，２θ向低角度偏移；引起（１１１）晶面間距、晶胞參數(shù)和晶格畸變的增大，而顯微晶粒尺寸減小；合金沉積層的電結(jié)晶生長(zhǎng)形態(tài)逐漸呈均勻排列的團(tuán)粒狀。
