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Ni/SiO2復合電鍍層高溫氧化性能的研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-12??瀏覽次數(shù):397 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:Ni/SiO2復合電鍍層高溫氧化性能的研究

摘 要:本試驗在普通鍍鎳液中添加了10~40g/L的二氧化硅微料,成功地制備了Ni/SiO2復合鍍層,隨后在800℃下進行了高溫氧化試驗,研究結(jié)果表明:不同粒徑的微粒均可復合進入鍍層,微粒的進入對鍍層的高溫抗氧化性有明顯影響;初始氧化階段,微粒的存在有利于提高鍍層的抗高溫氧化性能;在高溫氧化過程中,還明顯存在基底銅向鎳鍍層的擴散,這可能有利于增強鍍層與基底之間的結(jié)合力,X射線衍射分析表明:高溫氧化后在鍍層表面主要生成NiO產(chǎn)物。

Ni/SiO2復合電鍍層高溫氧化性能的研究.pdf
 

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