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摘 要:根據(jù)慣性約束聚變分解實驗的要求,通過激光干涉法在光刻膠表面制備正弦起伏圖形,結合電鍍圖形轉(zhuǎn)移工藝,獲得了波長20～100 μm、振幅0.2～3.5 μm的一系列Ni基圖形轉(zhuǎn)移模板,并進一步將正弦起伏圖形轉(zhuǎn)移到聚苯乙烯薄膜表面,制備出聚苯乙烯二維調(diào)制箔靶.研究了圖形的精確轉(zhuǎn)移工藝,特別是深振幅樣品的脫模工藝,對工藝參數(shù)的優(yōu)化進行了討論.采用臺階儀和原子力顯微鏡監(jiān)控圖形轉(zhuǎn)移過程,比較了光刻膠表面圖形和一次、二次電鍍轉(zhuǎn)移圖形以及轉(zhuǎn)移到聚苯乙烯薄膜上圖形的形貌,測定了圖形轉(zhuǎn)移過程中的深度變化.
