摘 要:采用脈沖電流，制備(Ni-P)-納米SiO2復合鍍層。通過正交試驗設計的方法，重點考察了脈沖平均電流密度、脈寬、占空比、攪拌方式及納米SiO2的添加量對鍍層沉積速率、鍍層硬度以及鍍層中SiO2質(zhì)量分數(shù)的影響，從而遴選出最佳的電鍍工藝。同時，對脈沖電鍍與直流電鍍進行了比較。
脈沖復合電鍍（Ni-P）-納米微粒SiO2工藝.pdf
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