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NdCl3鍍液濃度對(duì)電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-11??瀏覽次數(shù):304 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:NdCl3鍍液濃度對(duì)電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響

摘 要:基于輕稀土元素-Nd與過渡金屬元素-Co之間的鐵磁耦合作用提高電鍍CoNiMnP永磁薄膜陣列的磁性能,在電鍍時(shí)引入稀土Nd元素進(jìn)入CoNiMnP永磁薄膜陣列中,通過改變鍍液中NdCl3的濃度而改變CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量.對(duì)鍍液中NdCl3濃度與薄膜磁性能的關(guān)系進(jìn)行了分析與測(cè)試,結(jié)果表明:室溫下,在電流密度為5mA/cm2時(shí),具有垂直各向異性的CoNdNiMnP永磁薄膜陣列被成功地電鍍得到.隨著NdCl3濃度的增加,薄膜的磁性能提高,當(dāng)NdCl3濃度增加到0.25×103g/cm3時(shí),薄膜的磁性能達(dá)到最大值,繼續(xù)增加鍍液中NdCl3濃度,薄膜陣列的磁性能不再增加.

NdCl3鍍液濃度對(duì)電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響.pdf
 

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