??
摘 要:為了提高電鍍產(chǎn)品質(zhì)量，在電鍍工藝中大量采用氰化合物。由于氰化合物屬劇毒物質(zhì)。因此在電鍍廢水排放前需要有效的降解廢水中的氰化合物。本研究采用間歇式高壓釜研究了含氰廢水的濕式氧化處理，并研究了氰化合物的初始濃度、pH、壓力和溫度等因素對本工藝降解氰化合物效率的影響。試驗在不同溫度(383—423K)、壓力(0．1—2．0MPa)和初始氰質(zhì)量濃度(100—5000mg／L)下進行，試驗電鍍廢水樣中分別含NaCN和Na，[Cu(CN)4]。結(jié)果表明，含NaCN的電鍍廢水中氰去除率隨溫度升高而提高，而與壓力和氰的初始濃度無關(guān)。在溫度423K、壓力1．0MPa條件下，
