摘 要:對(duì)三價(jià)鉻電解液鍍鉻的沉積速度進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究。對(duì)施鍍過(guò)程中沉積速度的影響因素電鍍時(shí)問(wèn)、電流密度、溫度做了詳細(xì)的實(shí)驗(yàn)測(cè)試，實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，為了獲得較高的沉積速度，施鍍過(guò)程中應(yīng)該控制電鍍時(shí)間為2min，電流密度為6A／dm^2，溫度為45℃，pH為3-5。[著者文摘]
三價(jià)鉻電解液鍍鉻沉積速度的影響因素研究.pdf
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