摘 要:通過對Ni—W—P合金電鍍層在200℃、0.5h熱處理后的XRD和SEM分析發(fā)現(xiàn),不論鍍態(tài)還是熱處理態(tài),鍍層結構均為非晶態(tài),且晶粒均勻,晶界清楚,熱處理后晶粒略長大。在鹽酸和硫酸介質(zhì)中的耐蝕性測試結果表明,熱處理后鍍層的耐蝕性略高于鍍態(tài)的耐蝕性;通過析氫性能測得鎳基合金的電催化活性依次為:Ni—W—P〉Ni—P〉Ni—W〉Ni。[著者文摘]
摘 要:通過對Ni—W—P合金電鍍層在200℃、0.5h熱處理后的XRD和SEM分析發(fā)現(xiàn),不論鍍態(tài)還是熱處理態(tài),鍍層結構均為非晶態(tài),且晶粒均勻,晶界清楚,熱處理后晶粒略長大。在鹽酸和硫酸介質(zhì)中的耐蝕性測試結果表明,熱處理后鍍層的耐蝕性略高于鍍態(tài)的耐蝕性;通過析氫性能測得鎳基合金的電催化活性依次為:Ni—W—P〉Ni—P〉Ni—W〉Ni。[著者文摘]