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鋁硅合金表面電沉積鉻工藝的優(yōu)化

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-10??瀏覽次數(shù):362 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:鋁硅合金表面電沉積鉻工藝的優(yōu)化

摘 要:研究了在鋁硅合金樣品表面電鍍硬鉻的工藝。用正交試驗法對含納米氧化鈰添加劑的鍍鉻配方進行成分優(yōu)化,并采用不同的電流密度、鍍液溫度和電鍍時間進行鍍鉻,經(jīng)過對鍍層的形貌、厚度及結(jié)合力等性能進行比較取舍,得出了低鉻酸電鍍硬鉻的工藝配方:80g/L CrO3,0.7g/L H2SO4,3g/L Cr^3+,3g/L CeO2;電鍍溫度為40℃,電流密度為30A/dmz,電鍍時間120min。結(jié)果表明:納米氧化鈰添加劑的加入,在獲得光滑致密鍍層的基礎(chǔ)上,大大降低了鍍液中鉻酐的含量,從而降低了對自然環(huán)境的污染。[著者文摘]

鋁硅合金表面電沉積鉻工藝的優(yōu)化.pdf
 

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