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摘 要:采用復(fù)合電鍍技術(shù)，通過向普通電鍍溶液中加入平均粒度約為10nm的CeO2顆粒的方法在Ni基上制備了Ni—CeO2納米復(fù)合涂層。XRD和SEM／EDAX分析結(jié)果表明，CeO2納米顆粒均勻分布在Ni納米晶中，由于納米CeO2顆粒的加入，Ni—CeO2納米復(fù)合涂層的擇優(yōu)取向由單Ni鍍層的（200）變?yōu)椋?11），在鍍層中起彌散強(qiáng)化作用的CeO2同時細(xì)化了基體Ni的晶粒尺寸，使得與單Ni鍍層相比，Ni-CeO2納米復(fù)合鍍層表現(xiàn)出了更高的硬度、低的摩擦系數(shù)和更好的耐磨性能。[著者文摘]
