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制備鉍靶的脈沖電鍍工藝

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-09??瀏覽次數(shù):418 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:制備鉍靶的脈沖電鍍工藝

摘 要:采用脈沖電鍍工藝,以直徑為1 mm的銅絲為芯軸,在無(wú)氰鍍液體系中,制備出慣性約束聚變實(shí)驗(yàn)用鉍靶所需的金屬鉍鍍層。通過(guò)正交試驗(yàn)得到的最佳脈沖工藝條件為:電流密度5 A/cm^2,頻率600 Hz,占空比1∶6,溫度20℃。利用掃描探針顯微鏡和掃描電子顯微鏡分別對(duì)鉍鍍層表面形貌進(jìn)行分析,同時(shí)利用X射線衍射對(duì)鉍鍍層物相成分進(jìn)行分析。表征結(jié)果表明:所得鉍鍍層表面細(xì)致均勻,孔隙率低,平整性好,無(wú)裂紋。[著者文摘]

制備鉍靶的脈沖電鍍工藝.pdf
 

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