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配位劑對低濃度硫酸鉻鍍鉻的影響

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-09??瀏覽次數(shù):352 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:配位劑對低濃度硫酸鉻鍍鉻的影響

摘 要:環(huán)保、成本較低的低濃度硫酸鹽三價鉻電鍍裝飾性鉻受到廣泛關(guān)注。在低濃度硫酸鉻體系中,研究了配位劑對鍍液和鍍層性能的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,以甲酸鈉和蘋果酸作為復(fù)合配位劑的鍍液性能較好。該鍍液在pH=3.0,θ=40℃時,所得鍍層光亮,電流密度范圍較寬,鍍液穩(wěn)定性達(dá)10 Ah/L,沉積速率大于0.2μm/min。[著者文摘]

配位劑對低濃度硫酸鉻鍍鉻的影響.pdf
 

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