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摘 要:針對等離子體診斷及空間環(huán)境探測等領(lǐng)域?qū)沊射線透射光柵的需要,采用全息光刻和微電鍍技術(shù)制作了自支撐軟X射線金透射光柵。在基底與光刻膠之間增加減反膜層以降低高反射基底引起的駐波效應(yīng)對掩模槽形的影響,使用全息光刻技術(shù)獲得了側(cè)壁陡直的光柵掩模。然后,在掩模頂部鍍保護(hù)層并使用反應(yīng)離子刻蝕獲得電鍍掩模,通過改變保護(hù)層厚度來調(diào)節(jié)電鍍掩模的占寬比。最后,利用微電鍍技術(shù)沉積金,成功制作了線條密度為3 450gr/mm的自支撐透射光柵,光柵周期約為290nm,占寬比為0.55,金吸收體為500nm,光柵尺寸達(dá)到10mm×15mm。在國家同步輻射裝置上,測得在5～12nm軟X射線波段其＋1級透射衍射效率約為5%。[著者文摘]
