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酸性鍍銅工藝硫酸過(guò)量引起的故障分析

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核心提示:酸性鍍銅工藝硫酸過(guò)量引起的故障分析

【簡(jiǎn)介】

 鄭州輕工業(yè)學(xué)院材料化工學(xué)院,河南鄭州

摘要:工業(yè)生產(chǎn)中,硫酸的過(guò)量添加會(huì)造成酸性鍍銅工藝陽(yáng)極鈍化、槽電壓升高、工作電流下降。本文討論了硫酸對(duì)硫酸銅溶解度的影響,發(fā)現(xiàn)水溶液中硫酸含量超過(guò)50g/L后硫酸銅的溶解度急劇下降。當(dāng)硫酸含量過(guò)高時(shí),隨著電鍍過(guò)程的進(jìn)行,Cu2+在陽(yáng)極表面層的濃度不斷升高,引起硫酸銅晶體在陽(yáng)極表面析出,使陽(yáng)極鈍化,導(dǎo)致無(wú)法正常生產(chǎn)。

關(guān)鍵詞:酸性鍍銅;硫酸;硫酸銅;溶解度;陽(yáng)極;鈍化

中圖分類號(hào):TQ153.14 文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A

文章編號(hào):1004–227X(2011)04–0013–02

1·前言

硫酸作為酸性鍍銅電解液的主要成分,可以提高鍍液電導(dǎo)率,擴(kuò)大電流密度范圍,防止銅鹽水解,改善電解液的分散能力和陽(yáng)極的溶解性能,增大陰極極化,使鍍層結(jié)晶細(xì)致。硫酸的含量必須要控制在一個(gè)合理的范圍內(nèi),否則會(huì)對(duì)工藝產(chǎn)生不利的影響[1]。筆者發(fā)現(xiàn)不少中小企業(yè)對(duì)酸性鍍銅工藝中硫酸的影響缺乏全面認(rèn)識(shí),鍍液中硫酸的含量往往大大超出工藝規(guī)范。某鋼絲鍍銅企業(yè)的電鍍銅生產(chǎn)線出現(xiàn)槽電壓升至滿量程(12V),工作電流由正常時(shí)的400A降至40A,無(wú)法維持正常生產(chǎn)的情況。結(jié)合這次因硫酸過(guò)量引起的故障,本文將重點(diǎn)討論硫酸含量過(guò)高對(duì)工藝的影響。

2·實(shí)驗(yàn)

2.1硫酸銅溶解度的測(cè)定

將過(guò)量的硫酸銅溶解于水中,制成飽和硫酸銅溶液,向溶液中加入硫酸,使硫酸銅結(jié)晶析出。稱取結(jié)晶的質(zhì)量,計(jì)算硫酸銅的溶解度。從50~100g/L逐步提高硫酸的含量,測(cè)定在不同的硫酸含量下,硫酸銅的溶解度。

2.2槽電壓的測(cè)定

對(duì)失調(diào)的酸性光亮鍍銅溶液進(jìn)行分析,得知其中含硫酸銅124.3g/L、硫酸205.8g/L,硫酸為正常含量的4倍左右。采用磷銅板為陽(yáng)極、電解銅板為陰極,陰、陽(yáng)極面積比為2∶1,以電流密度0.5A/dm2在250mL赫爾槽中電鍍,測(cè)定槽電壓的變化情況。

3·結(jié)果與討論

3.1硫酸對(duì)硫酸銅的影響

硫酸銅在不同質(zhì)量濃度的硫酸水溶液中的溶解度如圖1所示。

常規(guī)的酸性鍍銅工藝中,硫酸銅的含量在180~220g/L之間,硫酸含量在50~70g/L之間。由圖1可以看出,硫酸含量的逐步升高,使硫酸銅的溶解度逐漸下降,硫酸含量為0~50g/L時(shí),硫酸銅的溶解度略有下降,但溶液的導(dǎo)電能力、分散能力明顯提高;硫酸含量在50~70g/L之間時(shí)屬于正常的工藝范圍,溶液的導(dǎo)電能力、分散能力處于最佳狀態(tài),硫酸銅的溶解度雖有下降,但仍高于工藝配方中的上限(220g/L),不會(huì)對(duì)陽(yáng)極的溶解產(chǎn)生不利影響。硫酸含量一旦超過(guò)配方范圍,隨著硫酸的增多,硫酸銅的溶解度迅速下降,在陽(yáng)極板表面甚至鍍槽底部形成沉積。

3.2硫酸對(duì)槽電壓的影響

過(guò)高的硫酸含量,使槽電壓不穩(wěn)定,采用故障溶液進(jìn)行恒電流電鍍,槽電壓隨時(shí)間的變化結(jié)果如表1所示。

從表1可以看出,通電20min之后槽電壓迅速攀升,最大值達(dá)到13.3V,槽電壓最小值和最大值相差兩個(gè)數(shù)量級(jí)。隨著時(shí)間的推移,硫酸銅晶體逐漸在陽(yáng)極表面析出、覆蓋、增厚,陽(yáng)極鈍化引起電阻增大,槽電壓上升,該現(xiàn)象與企業(yè)生產(chǎn)線上的故障相一致。

3.3硫酸對(duì)陽(yáng)極的影響

使用磷銅板作陽(yáng)極時(shí),正常情況下,在陽(yáng)極表面形成一層具有金屬導(dǎo)電性的黑色膜,其主要成分是Cu3P,它可以阻止過(guò)多Cu+的產(chǎn)生,加速Cu+的氧化,減少銅粉(Cu2O)的生成。當(dāng)硫酸含量過(guò)高時(shí),一方面黑色膜受到抑制,顏色變淡,膜層過(guò)薄,加速了銅粉的產(chǎn)生,另一方面硫酸銅結(jié)晶覆蓋在陽(yáng)極表面,出現(xiàn)這種情況的原因可能是在通電情況下,陽(yáng)極正常溶解產(chǎn)生Cu2+,由于濃差極化的存在,銅離子在界面的濃度高于在本體的濃度,而過(guò)多硫酸的存在,使硫酸銅的溶解度降低,在兩相界面處容易達(dá)到飽和,過(guò)多的銅離子與硫酸根離子形成硫酸銅,在陽(yáng)極結(jié)晶析出,阻礙了陽(yáng)極的正常溶解過(guò)程,使陽(yáng)極鈍化[2-3]。

4·結(jié)論

鍍液中硫酸含量的升高,使硫酸銅溶解度降低。隨著電鍍過(guò)程的進(jìn)行,Cu2+在陽(yáng)極表面層的濃度不斷升高,引起硫酸銅晶體在陽(yáng)極表面析出,使陽(yáng)極鈍化。

因此,在生產(chǎn)中應(yīng)該嚴(yán)格監(jiān)控硫酸的含量,定期分析并將其調(diào)整至工藝要求的范圍內(nèi)。

參考文獻(xiàn):

[1]馮輝,張勇,張林森,等.電鍍理論與工藝[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2008:95-103.

[2]鄧文,劉昭林,郭鶴桐.銅磷合金陽(yáng)極電化學(xué)行為的研究[J].電鍍與涂飾,1996,17(2):1-4.

[3]郭鶴桐,覃奇賢.電化學(xué)教程[M].天津:天津大學(xué)出版社,2000:333-335.

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