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錫鍍層表面晶須問題的研究現(xiàn)狀與進(jìn)展.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-08-07??瀏覽次數(shù):244 ??關(guān)注:加關(guān)注
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【簡介】

隨著電子封裝無鉛化的趨勢,選擇無鉛錫基鍍層已成為必然。但是,純錫及錫基合金鍍層具有自發(fā)生長錫晶須的傾向,因此研究并闡明錫晶須的生長機(jī)理,并采取有效的預(yù)防措施,成為目前人們關(guān)注的焦點(diǎn)。回顧了錫晶須研究的歷史和現(xiàn)狀,綜述了關(guān)于錫晶須的形貌特征、影響錫晶須生長的各種因素及目前對錫晶須生長機(jī)理的認(rèn)識等問題,介紹并分析了幾種工業(yè)界預(yù)防錫晶須生長的主要措施,包括合金化、去應(yīng)力退火、電鍍隔離層、熱風(fēng)整平或熱熔。討論并提出了一些需要研究的課題。

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