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電沉積Ni-20(質(zhì)量)磁性合金箔工藝的研究.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-07-05??瀏覽次數(shù):350 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:電沉積Ni-20(質(zhì)量)磁性合金箔工藝的研究.pdf

【簡(jiǎn)介】

在硫酸鹽一氯化物溶液體系中采用電沉積法制得了光亮Ni-Fe軟磁合金箔,研究了(Ni^2+)/n(Fe^2+)摩爾比,電流密度,鍍液pH,鍍液溫度對(duì)電沉積Ni-Fe合金箔的鐵含量的影響規(guī)律,確定了最佳工藝條件。驗(yàn)證性實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在最佳工藝條件下制備的Ni-Fe合金箔是納米晶合金,其Ni,F(xiàn)e含量分別為8O.4 (質(zhì)量)和19.6 (質(zhì)量)。這種合金箔外觀平整、致密,具有明顯的層狀結(jié)構(gòu),其飽和磁通密度(M,)為94.23emu/g,剩余磁通密度(Mr)為4.33emu/g,矯頑力(He)為5.08Oe。

電沉積Ni-20(質(zhì)量)磁性合金箔工藝的研究.pdf
 

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