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氧等離子體表面處理對ITO薄膜的影響.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-06-19??瀏覽次數(shù):364 ??關注:加關注
核心提示:氧等離子體表面處理對ITO薄膜的影響.pdf

【簡介】

利用原子力顯微鏡檢測ITO薄膜的微觀表面形貌以及微觀區(qū)域電性能,研究氧等離子體處理對ITO薄膜的表面形貌及導電性能的影響,從微觀上探討氧等離子體處理對ITO薄膜的影響.經(jīng)過氧等離子體處理,IT0薄膜的平均粗糙度從4.6 nm減小到2.5 nm,薄膜的平整度得到提高;但氧等離子體處理之后,IT0薄膜的導電性能大大下降,原因在于ITO薄膜表面被進一步氧化使得ITO薄膜表面的氧空位減少.上述結果從微觀上解釋了氧等離子體處理能夠改善有機發(fā)光二極管光電性能的原因.

氧等離子體表面處理對ITO薄膜的影響.pdf
 

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