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高速鍍銅溶液銅離子濃度升高的原因和對策.pdf

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【簡介】

關(guān)鍵詞:鍍銅 銅離子濃度 原因 對策 鍍液 電鍍 工藝

中圖分類號:TQ 153.14

文獻標(biāo)識碼:B

在光亮酸性鍍銅工藝中,常常會出現(xiàn)銅離子濃度降低,需要補充硫酸銅的現(xiàn)象,如果是用塊狀磷銅陽極,需要在陽極棒上排滿磷銅塊,最好的辦法是用裝滿磷銅球的鈦藍作陽性,以增加陽極面積,避免銅離子濃度降低。但在高速鍍銅工藝中,情況恰恰相反。我廠高速鍍銅溶液的總體積約為l5m3,每天銅離子升高約2 g/L,即每天陽極溶

解的銅比陰極析出的銅約多30 kg。如不及時處理,當(dāng)銅離子濃度高于73 L時,鍍層粗糙、變脆,由于硫酸銅在陽極析出,使陽性鈍化,槽電壓升高,生產(chǎn)難以正常進行。

l 高速鍍銅溶液銅離子濃度上升的原因

1.1 常規(guī)鍍銅工藝的陰、陽極電流效率

酸性鍍銅溶液是一種強酸性的簡單鹽電鍍?nèi)芤海円褐袥]有使用絡(luò)合劑。硫酸銅在鍍液中完全離解成為cu 和s 一,加入硫酸既有利于提高溶液電導(dǎo)率,又有助于提高陽極的溶解能力。在正常的陰極電流密度下,陰極主要發(fā)生Cu 得到電子生成金屬銅的反應(yīng),H 放電的機會很少,因此陰極電流效率接近100%。

一般認(rèn)為,酸銅過程的陽極反應(yīng)即金屬銅溶解形成銅離子的過程是分步進行的,

歧化反應(yīng)生成的很細(xì)的銅粉成為陽極泥,當(dāng)使用空氣攪拌時,部分銅粉進入鍍層形成毛刺。這就是鍍銅過程中常常生成銅粉并使鍍層出現(xiàn)毛刺的原因。

酸性鍍銅工藝是采用磷銅陽極,磷銅陽極中含有磷0.04% ~0.065%。如果采用磷銅作陽極,則在通電過程中叮以發(fā)現(xiàn)陽極表面生成了一層較致密的膠狀黑膜:用電子衍射、X一射線衍射法測定了黑膜的組成,發(fā)現(xiàn)其主要成份是Cu P。因此,可以認(rèn)為,由于陽極中磷的存在,使陽極溶解時生成的Cu 立即變成Cu P,阻止了歧化反應(yīng)的進

行。顯然,這只是磷抑制銅粉產(chǎn)生的可能因之一,因為這一機理尚難以說明陽極r{_I極少量的磷如何能使陽極過程中大量,生成的一價銅全部得到抑制..

進一步的研究表明,磷銅陽極在相 條件下的溶解電流比鈍銅的大,表明磷銅陽極表面的黑膜能夠加速陽極過程,可能對速度控制步驟即一價銅氧化為二價銅這一步起催化作用。Jacq等人用旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極研究了純銅和磷銅的陽極溶解過程。發(fā)現(xiàn)后者產(chǎn)生的環(huán)電流比前者小,且迅速衰減至零環(huán)電流是由于銅陽極溶解時產(chǎn)生的中間價態(tài)物質(zhì)的氧化,即一價銅的氧化反應(yīng):

綜上所述,使用磷銅陽極時,陽極中的磷與生成的一價cu結(jié)合生成Cu P,而cu3p可以催化Cu 的氧化反應(yīng),使Cu 迅速氧化為Cu2 ,避免了’生成銅粉的歧化反應(yīng)的發(fā)生,同時Cu3P的導(dǎo)電性良好,不會使陽極鈍化,這就是酸性鍍銅工藝為什么要使用磷銅陽極的原因。

但是磷銅陽極中的磷含量也不是越多越好,當(dāng)磷含量較高時,陽極上的黑膜變厚,膜的結(jié)合力下降、破裂、剝落,從而污染鍍液。因此最好使用含磷量均勻,且含磷量為0.1% 以下的陽極。

即使在電鍍時使用J,磷銅陽極,仍然有可能牛成銅粉,這又是什么原因呢?研究表明,磷銅陽極在不同極化狀態(tài)下的溶解機理不同,陽極圾化小于70 mV時,僅有Cu 溶出,無cu 產(chǎn)生,當(dāng)極化大于70 mV時,則出現(xiàn)cu-,因此,應(yīng)該避免陽極極化過高,避免陽極極化過高的方法是增大陽極面積,防止陽極電流密度過大,避免工作溫度過低。總之,防止陽極鈍化,陽極不鈍化,槽電壓不高,陽極電位就不會高,就可能避免Cu 的產(chǎn)生.

一般來說,陰極面積應(yīng)是陽極面積的2~ 3倍,最好使用鈦籃,內(nèi)裝球狀陽極,D 不超過3 A/dm2,最好1~2 A/dm2。

在生產(chǎn)過程中,我們也可以采取空氣攪拌,定期添加0.1 ml/I 左右的經(jīng)過稀釋的H202等方法來氧化鍍液中可能存在的Cu +。

由上述討論可知,常規(guī)酸性鍍銅的陽電流效率在下述任何一種情況存在時,其電流效率可能低于100% :沒有使用磷銅陽極;使用的磷銅陽極磷含量過高或過低,或不均勻;磷銅陽極的面積太小。

當(dāng)陰極電流效率接近100% ,而陽極電流效率低于100% 時,陰極放電消耗的銅離子,不能100%地由陽極溶解得到補充,此時鍍液中的銅離子濃度下降。

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