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【簡介】
在一種含有鈷、鎳、羧酸、次磷酸鈉和硫酸銨的溶液中電沉積可以獲得硬磁性膜層，其電解液組成和工藝條件如下：Co^2+1.5-20g/L;Ni^2+0-10g/L；羧酸或其鹽20－75g/L，次磷酸鈉10－60g/L，硫酸銨20－100g/L,pH為7．1－8．5，電解液溫度為40－95攝氏度，陰極電流密度為0．1－2．0A/dm^2，該硬磁性膜層主要用于計(jì)算機(jī)電子存貯器的鍍覆，其優(yōu)點(diǎn)是所制得的硬磁性膜層的厚度高達(dá)100um時(shí)，矯頑力與膜層厚度無關(guān)，并且適用于園柱形基體的選擇性鍍覆和無缺陷邊緣的鍍覆。
