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【簡介】
射流電沉積是近年來發(fā)展起來的一種電沉積新工藝，具有普通電鍍所不具備的一些優(yōu)點。利用二維移動平臺系統(tǒng)進行射流電沉積，研究了瓦特鎳鍍液的噴射速度、溫度以及陰陽極間距等因素對射流電沉積的影響。研究結(jié)果表明，當鍍液噴射速度為0．3 m／s，槽電壓為20 V，陰陽極之間距離為17 mm時，采用該系統(tǒng)可在金屬試樣上快速獲得預(yù)先設(shè)定的圖形鍍層，鍍層分布均勻，與基體的結(jié)合力良好。
【簡介】
射流電沉積是近年來發(fā)展起來的一種電沉積新工藝，具有普通電鍍所不具備的一些優(yōu)點。利用二維移動平臺系統(tǒng)進行射流電沉積，研究了瓦特鎳鍍液的噴射速度、溫度以及陰陽極間距等因素對射流電沉積的影響。研究結(jié)果表明，當鍍液噴射速度為0．3 m／s，槽電壓為20 V，陰陽極之間距離為17 mm時，采用該系統(tǒng)可在金屬試樣上快速獲得預(yù)先設(shè)定的圖形鍍層，鍍層分布均勻，與基體的結(jié)合力良好。
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