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一種脈沖電鍍工藝制備鉍薄膜的方法.pdf

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核心提示:一種脈沖電鍍工藝制備鉍薄膜的方法.pdf

【專利號(申請?zhí)?】201010286290.2

【公開(公告)號】CN101942683A

【申請人(專利權(quán))】西南科技大學(xué)

【申請日期】2010-9-19 0:00:00

【公開(公告)日】2011-1-12 0:00:00

一種脈沖電鍍工藝制備鉍薄膜的方法,其特征是包括:主要按三氯化鉍40120g/L、酒石酸鉀鈉80240g/L、檸檬酸鉀4060g/L、酒石酸銻鉀0.200.35g/L、氯化鉀5080g/L的組成和含量配制電鍍液;以銅片為陰極、純金板為陽極,在電流密度為0.550.85A/dm2、頻率為500700Hz、占空比為17111、電鍍液溫度為2550℃、pH值為7.511.5的脈沖電鍍工藝條件下進(jìn)行電鍍,沉積在銅片上的膜即制得的鉍薄膜。本發(fā)明無氰鍍液綠色環(huán)保、性能穩(wěn)定;制備的鉍薄膜表面平滑光亮、孔隙率低、結(jié)合力好、厚度易控,在電子材料與元器件工業(yè)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。

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